电场评估

电场（Electric Field）窗口在选定波长下，将平方场振幅 |E(z)|² 相对镀膜深度绘制成图。它显示光强在堆栈内部的集中位置，这是激光损伤阈值分析的关键信息，因为承载最高场强的层通常是高功率光束下最先失效的层。它还能清楚地说明为什么某一层的厚度对性能如此重要。

场被归一化，使入射强度为 1，即显示为 100%。它在每个深度处将前向与后向行波叠加，并在各层边界处匹配。在高反射镜中，入射介质中的场可达 400%，因为入射波与反射波几乎同相叠加。

设置

波长（Wavelength）：计算驻波分布所用的单一波长，单位为 nm。默认取设计的参考波长。

AOI：入射角，单位为度。

偏振（Polarization）：s、p 或二者的平均。在斜入射时 s 与 p 给出不同的分布，因此在斜角工作时需对二者进行比较。

面（Side）：绘制**前（front）镀膜还是后（back）**镀膜的剖面。每一侧都显示该镀膜在基底上的驻波，从其自身的入射介质评估；基底为出射介质。

如何解读

横轴为物理深度，单位为纳米；竖直虚线与彩色条带标出层边界与材料。|E(z)|² 的峰值为场反节点（anti-node），谷值为节点（node）。对于激光损伤工作，承载最高材料内场强的层是瓶颈；降低该处的场强可提高损伤阈值。在精心设计的反射镜中，反节点优先落在更坚固的材料中，这正是反射镜能承受高功率的部分原因。

读数报告峰值场强、层数与总物理厚度，数据表列出屏幕上各曲线的场强随深度的变化。将场强与折射率分布对照阅读，可看出驻波峰值落在哪一层。

参考文献

• H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., Ch. 3（式 3.5–3.6），薄膜中的场。