电场评估
电场（Electric Field）窗口在选定波长下，将镀膜内部的场相对深度绘制成图。它显示场在堆栈内部的集中位置，这是激光损伤工作的关键信息，因为承载最高场强的层通常是高功率光束下最先失效的层。它还能清楚地说明为什么某一层的厚度对性能如此重要。
在每个深度处，窗口将前向与后向行波叠加，并在各层边界处匹配。在高反射镜中，第一表面之外的场可达入射振幅的两倍，因为入射波与反射波几乎同相叠加。
波长（Wavelength）：计算驻波分布所用的单一波长，单位为 nm。默认取设计的参考波长。
AOI：入射角，单位为度。
偏振（Polarization）：s、p 或二者的平均。在斜入射时 s 与 p 给出不同的分布，因此在斜入射下工作时应将二者对比。
物理量（Quantity）：纵轴所表示的量。
- 入射 1 W/m² 的幅值，单位 V/m。这是绝对场强，对应每平方米一瓦的入射光束。换算到实际光束只需一次乘法，而这正是判断某一层能否承受一个脉冲时所需要的。此为默认值。
- 平方，占入射比例，即相对入射
|E|²的百分比。这是纯比值，适合比较不同设计而非不同光束。 - 平方，绝对值，单位 (V/m)²，同样对应 1 W/m² 入射。吸收估算需要这种形式，因为吸收功率随场的平方变化。
两种绝对形式都与入射介质有关，因为在光密介质中，给定辐照度的光束所携带的场更弱：对于折射率为 n 的介质中的辐照度 I，|E| = sqrt(2I / (ε₀cn))。1 W/m² 的光束在空气中幅值为 27.4492 V/m，在其他介质中则为该值除以折射率的平方根。
分量（Component）：所绘制的场的分量。
- 总场，即合成场。除非专门需要某个分量，应读取这条曲线。
- 沿膜层方向，即平行于层边界的分量。
- 垂直于膜层，即与之垂直的分量。
在正入射时，以及 s 偏振在任意角度时，场完全沿膜层方向，因此垂直分量为零，总场与之相等。只有 p 偏振在斜入射时才分为两个分量，而此时材料所感受到的是二者的合成。
深度坐标轴（Depth axis）：横轴所度量的量。
- 物理深度，单位 nm，自外表面算起。此为默认值。
- 光学厚度 (nm)，即穿过堆栈时
n·d的累加值。 - 光学厚度 (QWOT) 与 (FWOT)，即同一光学厚度除以参考波长，以四分之一波或全波计。
λ₀：度量光学单位所用的波长。它不参与场的计算，只决定曲线在深度方向上的落点，因此当坐标轴按物理深度显示时该设置不起作用。取自设计采用设计自身的参考波长，也就是膜层编辑器厚度列所用的波长，因此坐标轴与膜层表给出相同的数值：在膜层表中读作 0.25 FWOT 的一层，在该坐标轴上也恰好跨越 0.25，峰值可以直接对应到表中的某一行。取消勾选可另行输入 λ₀，用于按并非该膜系所依据的波长来查看堆栈。无论采用哪一种，坐标轴标题都会写明当前所用的波长；坐标轴描述的是堆栈本身：改变计算场所用的波长只会移动曲线，不会移动层边界。
面（Side）：绘制**前（front）镀膜还是后（back）**镀膜的剖面。每一侧都显示该镀膜在基底上的驻波，从其自身的入射介质评估；基底为出射介质。
横轴自入射介质伸向基底；竖直虚线与彩色条带标出层边界与材料。一条水平虚线标出入射光束自身的水平，因此高于该线的场是被镀膜集中起来的，而不只是穿过而已。峰值为场反节点（anti-node），谷值为节点（node）。
在光学坐标轴上，四分之一波堆栈的节点在其调谐波长处恰好相隔半个全波，比物理坐标轴更便于目视检查：各层折射率不同时，物理坐标轴上的节点间距并不均匀。
对于激光损伤工作，承载最高场强的层是瓶颈，降低该处的场强可提高损伤阈值。在精心设计的反射镜中，反节点优先落在更坚固的材料中，这正是反射镜能承受高功率的部分原因。为此应读取总场，而不是某个单独分量：在斜入射时，p 偏振场的切向分量可能在某个深度出现节点，而该处的合成场并不小，因为垂直分量在那里承载了场。
数据表以与图相同的深度坐标列出屏幕上各曲线的场强，每个列标题都带有单位，并可导出为 CSV。将场强与折射率分布对照阅读，可看出驻波峰值落在哪一层。
- H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., Ch. 3（式 3.5–3.6），薄膜中的场。
- H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., Admittance Loci 一节给出由入射辐照度确定的绝对场强，Laser Damage 一节说明为何场的平方才是关键。