非均匀性与界面层
沉积永远不会在两种材料之间产生完全突变的边界。总会存在一个薄区域，折射率从一种材料渐变到另一种。非均匀性（Inhomogeneities）允许你在堆栈的任意界面插入这样的渐变过渡，并查看它对光谱的影响。每个过渡被切片为许多薄子层，其折射率沿所选分布在两种材料之间线性混合，渐变堆栈被评估并叠加在原始阶梯界面设计之上。界面层仅为预览：你的设计不会被更改。
该窗口为在设计编辑器中设置的面模式配置界面：前堆栈、后堆栈，或整体时的两者。
λ 范围 / 步长：波长网格，单位为纳米。
AOI：入射角。
T / R / A：要绘制哪些曲线，每种内部含 avg、s 与 p。每种偏振一起计算，因此开启一种会添加一条曲线而非替换平均曲线，且不增加额外成本。
图表下方的**界面（Interfaces）**条按所连接的两个介质列出堆栈中的每个界面。勾选一个以在那里添加渐变界面层，然后设置：
厚度（Thickness）：过渡区域的深度，单位为纳米。界面层添加在界面处；宿主层保持其自身厚度。
分布（Profile）：过渡期间折射率的渐变形状：线性（linear）、抛物线（parabolic）、反抛物线（invParabolic）、**指数（exponential）**或 S 形（sigmoid）。
切片数（Slices）：过渡为计算而划分的薄子层数。通常 10–20 已足够；更多切片给出更平滑的渐变。
**清除全部（Clear all）**移除所有界面层。
图表单位为百分比。每个通道绘制两次：原始阶梯界面设计作为浅色虚线，渐变版本作为上方实线。比较二者可看出真实、非突变界面的代价：通常是软化的阻带边缘与偏移的通带波纹。如果你的设计带有规格，结果条中的实时判定会告诉你渐变设计是否仍通过。界面条标题报告有多少界面层处于活动状态及其组合厚度。
- H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., §16（非均匀层）。