镀膜库
镀膜库窗口把镀膜当作独立的对象来保存，与设计分开。这里的一个镀膜包括膜层堆栈、设计时所用的基底和入射介质、所针对的波段、入射角和偏振，以及它所满足的规格。库中的任何镀膜都可以放到活动设计的前表面或后表面上。
窗口有两个书架。内置是随 TFStudio 一起发布的起始设计。我的镀膜是你自己保存的镀膜。
每个内置镀膜都使用内置材料库中的材料，或自带材料定义，因此在任何安装上计算结果都相同。每个条目都记录了设计的来源，发布的厚度是用 TFStudio 自己的材料数据满足该条目规格的厚度。取自书本、以理想折射率给出的设计，在发布前已映射到真实材料并重新优化。
内置书架的目标是少而可靠，而不是长。把条目当作起点：先应用，再在此基础上做精炼或综合。
阅读一个条目
Section titled “阅读一个条目”在列表中选择一个镀膜，可以看到：
- 适用场合与局限：该镀膜的用途，以及它在哪些情况下不再是好的答案。
- 光谱：镀膜单独在其基底上、从其入射介质一侧看到的光谱，按条目自身的入射角和偏振计算，并在曲线上方标明。正入射时显示 T、R 和 A；斜入射时分别显示 s 和 p 分量（实线 s，虚线 p），因为分束器或偏振片正是以此来规定的。范围比设计波段稍宽，波段以阴影标出。
- 膜系：从基底向上的各膜层，编号方式与设计编辑器相同，厚度以 nm 计。
- 设计波段内的特性：对该家族有意义的数字，按条目的入射角计算。减反射膜显示平均和最大 R；反射镜显示最小 R 和吸收；边缘滤光片显示通带和截止带透过率以及 T 穿过 50 % 的波长；带通滤光片显示峰值、中心波长和 FWHM；陷波滤光片对其凹陷显示同样的量；偏振片显示 Ts、Tp 及其比值。在斜入射时，R 和 T 分别给出 s、p 及其平均。在多个波段上规定的镀膜每个波段占一列；层数和总厚度列在最后。这些数字与评价函数操作数和限定符给出的数字相同。
- 规格：条目提出的每一项指标，连同其规定的入射角和偏振、计算值以及合格或不合格标记。这些指标用规格说明窗口所用的同一套限定符来评估。
- 来源：设计的出处。
每个条目都有一个类型和一组标签。类型是所属的家族：减反射、反射镜、边缘滤光片、带通滤光片、陷波滤光片、分束器、冷镜与热镜、偏振片、低辐射、啁啾镜、中性密度。标签说明其余信息：光谱区域（可见、近红外、中波红外等）、覆盖的波段数、用途（激光、通信、CWDM 与 DWDM 网格、成像、太阳能）、功能（短波通、长波通、高反射、消偏振）、结构（四分之一波堆栈、V 形膜、金属介质、材料对）、几何以及基底。将鼠标悬停在标签上可查看其含义。
列表按家族分为文件夹，每个家族有自己的颜色，并显示所含条目数。文件夹默认折叠；点击标题可以展开或折叠。每一行都带有一条按材料自身颜色绘制的膜系色带（与设计编辑器使用的颜色相同），基底一侧在左。
列表可以按类型、按基底、按任意数量的标签（条目必须同时带有全部所选标签）、按必须落在其某个设计波段内的波长、按最大层数，以及按名称、用途说明、标签、基底和膜层材料的文本搜索来缩小。标签按钮会展开通过其他筛选条件的条目所带的标签，按标签种类逐行列出，每个标签按种类着色并显示选中它后会保留的条目数。已选中的标签在面板折叠后仍留在栏中。
选择前表面或后表面，再选择替换膜系或叠加在膜系之上，然后按应用。替换会把所选表面的膜系换成该镀膜。叠加会把镀膜镀在已有膜系之上，新膜层位于最外侧。设计的基底和介质不会改变；在依赖这些数字之前，请把它们与条目设计时所用的基底作比较。
应用是一次可撤销的编辑：撤销会恢复原来的膜系。
如果镀膜携带的材料定义所用的 id 已被设计使用且数据不同，则保留设计自身的定义，窗口会加以说明。此时该镀膜的计算结果可能与它在库中的表现不同。
本窗口中的保存当前镀膜…，或设计编辑器“工具”菜单中的将镀膜保存到库…，会把活动设计的前表面或后表面膜系保存到“我的镀膜”。为它取一个名称、选择类型并写一句用途说明，然后设置它所针对的波段、入射角和偏振。非内置材料会嵌入保存的条目中，因此即使来源目录被重命名或删除，它仍然可用。
保存的镀膜是“镀膜”文件夹（设置，数据文件夹）中扩展名为 .tfsc 的纯 JSON 文件。用已有名称保存会替换该镀膜。删除会移除所选的已保存镀膜。
**分享镀膜…**会把您的一个镀膜提交给项目，用于内置库。选中“我的镀膜”中的一项后，对话框可打开一个已预填层表和设计条件的 GitHub issue，或一封内容相同的电子邮件；**保存文件以便发送…**会把镀膜连同其嵌入的材料数据写成一个文件，可附加到 issue 或邮件中。未选中任何项时，对话框只给出这两种提交方式。
只要有层表和明确用途，任何形式都欢迎：.tfs 或 .tfsc 文件、手工输入的表格，或从其他程序导出的设计，有无说明均可。投稿的镀膜会随下一个版本发布，并在其来源行中署名。