评价函数编辑器
评价函数编辑器是你告诉优化器“好”是什么样子的地方。设计应当达到的每个目标,以及对层堆栈的每条约束,都在此处以一组**操作数(operands)**的形式存在。每个操作数是优化器试图驱动至目标值的单个数字,而评价函数(MF, merit function)是各操作数偏离目标程度的加权均方根:
MF = √( Σ_i w_i · residual_i² / Σ_i w_i )权重 w_i 以线性方式进入。残差对于等式目标是 value − target,对于不等式或约束则是单边的 max(0, …) 项(因此一个已满足的约束会完全退出求和)。
波长值的残差首先被重新缩放到光学尺度,以免它们占据主导。MF 越小越好;优化器(精炼、针式与渐进演化)通过移动层厚度来减小它。
下表是一个快速导引。完整目录(每种类型、其参数、其输出值与单位,以及它如何形成残差)在操作数参考页面。
| 组 | 类型 | 输出 |
|---|---|---|
| 单波长光学 | T R A |
单波长处的 T/R/A |
| 带平均 | TAV RAV AAV |
一个波段上的 T/R/A 均值 |
| 光谱目标 | TGT RGT AGT |
与一条平坦/斜坡线的偏差 |
| 加权积分 | TIW RIW AIW |
源 × 探测器加权均值 |
| 最坏情况 | TMN RMN AMN TMX RMX AMX |
T/R/A 的带极值 |
| 相位 / 场 | PSI DEL TANPSI COSDEL PR PT DPR DPT GD* GDD* TOD* EFMX |
相位、椭偏、色散、峰值 |E|² |
| 极值波长 | MXWT MXWR MXWA MNWT MNWR MNWA |
极值所在的波长 |
| 数学(引用行) | OPGT OPLT OPVA ABSO ABGT ABLT DIFF SUMM PROD |
由其他行派生 |
| 厚度 | TT MNT MXT |
总厚度 / 每层厚度 |
| 注释 | BLNK DMFS |
惰性 |
反射与透射目标通常由滤波型向导以成对行生成,这样优化器就无法用吸收来换取轻松的胜利。
滤波型向导:在顶部,一组镀膜类别(增透 AR、高反 HR、带通、陷波、边缘滤波、斜坡)。选择目标,向导会填入合理的权重与操作数,供你随后精修。自定义目标类别生成单个用户指定的目标。选择一个通道(T/R/A)、一个比较(=、≤、≥)、一个值,以及一个波长范围,在所选偏振与入射角下,作为连续线、离散点或最坏情况边界。
操作数表格:每行一个操作数;可就地编辑任意单元格。类型单元格打开一个可搜索的选择器,操作数按类别分组(与设计编辑器的材料选择器相同的控件)。高级列设置每个操作数的权重、入射角、偏振,以及一个可选的表面模式覆盖。
约束:设置每层或每种材料的最小与最大层厚度边界(MNT/MXT)。一个边界可以被写成覆盖综合之后将添加的层。
MF 与 OMF
Section titled “MF 与 OMF”表头显示两个数字:
- MF:完整的评价函数,包含制造与厚度约束(
MNT、MXT、TT)。 - OMF:光学评价函数:同样的 RMS,但只计入光学操作数(T/R/A 目标、带等),厚度约束被丢弃。
它们将普通 MF 混在一起的两个问题分开:光谱有多好?(OMF)对比 在遵守我的厚度限制的同时光谱有多好?(MF)。当 MF 高但 OMF 低时,光学性能没问题,是某个约束(过薄或过厚的层)在拖累你,而不是光学本身。
每个操作数行显示其当前值与残差,因此你可以一眼看出哪些目标已满足、哪些在拉高评价函数。更大的权重使一个操作数占比更重;在 HR 设计上提高阻带权重是最常见的调整。
操作数列表随设计一起保存,并被每个优化器读取:精炼、针式、渐进演化与结构优化器。综合工具在构建堆栈时仅针对光学操作数进行优化,随后在精炼阶段强制执行厚度约束。一个好的最终顺序是:精炼,然后 Cleaner,然后再精炼。
- A. V. Tikhonravov, M. K. Trubetskov, G. W. DeBell, “Application of the needle optimization technique to the design of optical coatings,” Appl. Opt. 35, 5493 (1996)。
- J. A. Dobrowolski, R. A. Kemp, “Refinement of optical multilayer systems with different optimization procedures,” Appl. Opt. 29, 2876 (1990)。