工艺导出器
工艺导出器（Process Exporter） 逐层回放你的镀膜（第 1 层完成后、第 2 层完成后，依此类推直到完整设计），让你能够精确看到随着堆栈生长，腔体分光光度计将测量到什么。它还会导出每一步的 .res 沉积文件，沉积监控软件可以直接加载，每层一个文件。
底部的时间轴可拖动浏览整个沉积过程。图表显示裸基底基线（虚线）、时间轴当前所在层的已完成光谱，以及当前拖动位置处的实时曲线（加粗）。启用显示所有层后，会为每一层添加一条已完成光谱曲线，颜色从第一层的蓝色渐变到最后一层的红色。光谱使用完整系统（前表面、基底和后表面，并采用非相干基底）计算，因此与光谱仪实际看到的相符。被测件位于腔体内，因此无论设计嵌在何种介质中，其两侧都按空气计算。
工具栏上是定义这次运行的内容：镀膜面、工件或监控片、对面状态、物理量，以及“显示所有膜层”。工具栏右端的“设置”按钮收纳监控仪的几何参数、光谱范围和导出步长。左侧边栏列出沉积序列和每种材料的速率；监控片模式下，监控片设置位于序列表上方。
Active side（活动面）：正在沉积的是哪一面镀膜，前表面还是后表面。
Deposit on（沉积对象）：工件或监控片。选工件时，所有层都沉积在同一件上，另一面可以是裸的或已镀好的。选监控片时，每片监控片只承载分配给它的层，从裸监控片玻璃开始，无论工件沉积哪一面都按前表面镀膜生长，读取时背面裸露，因此对面状态不适用。监控片方案、监控片玻璃和监控片系数与监控工作表中的相同：在任一窗口输入的监控片编号，另一窗口同样显示；监控片模式下序列表增加可编辑的“监控片”列，其上方的侧边栏中出现每片层数、监控片玻璃和监控片系数。
Opposite-surface state（对面状态）：工件模式下，在整个运行过程中，另一面是无镀膜还是已经镀好。
Quantity（量）：测量反射率、透射率或吸收率。
入射角和偏振态：标准的分析控制项（s、p 或平均），位于“设置”中。
Spectral range（光谱范围）：交互式图表的波长起点、终点和步长，位于“设置”中。较粗的步长可保持拖动流畅。如果范围超出了腔体内某种材料（某一膜层、基底或监控片玻璃）的实测数据，工具栏上的提示标记会指出该材料，并提供将范围收回到数据范围内的按钮。
Export step（导出步长）：写入 .res 文件的波长步长，不影响图表。默认值为 0.5 nm；请将其设置为与你的分光光度计网格匹配。对于固定阵列仪器，这通常是 0.4375 nm 之类的非整数值。小数可使用点或逗号输入。它位于“设置”中光谱范围的下方。
Show all layers（显示所有层）：绘制每一层的已完成光谱。默认关闭时，图表只显示基线、时间轴当前所在层和实时曲线。把六十条已完成曲线同时铺在一张图上只会形成一片灰雾，让答案淹没其中；需要比较整个沉积过程时再将其打开。当前层会保持完整强度，其余曲线变为灰色，因为转折点只有与此前曲线对照时才有意义。无论绘制多少曲线，悬停读数始终只显示上述三条；需要读取某一层的值时，请先选中该层。
Deposition rates（沉积速率）：侧边栏中可选的每种材料速率（nm/s）。速率只影响时间轴，不改变光谱。序列表显示每层的厚度和时间，当前层左侧会显示标记条。点击某一层可将时间轴移动到该层完全沉积的位置，随后可用上下方向键逐层移动。再次点击固定的层可释放它；按下播放或移动时间轴也会将其释放。你的设置选择和速率会在会话之间被记住。
Save（保存）：选择一个输出文件夹；每个已完成的沉积步骤写入一个 .res 文件（01.res、02.res、……）。每个文件带有表头以及每层的物理厚度与光学厚度表格；层按沉积顺序编号，第 1 层为最先沉积的层（即接触基底的那一层）。监控片模式下，每片监控片有自己的文件夹（chip-1、chip-2……），该片的文件从 01 起编号，层表只列出该片上的层及监控片实际获得的厚度；每个文件的注释行给出它对应的设计层号。层数很多时，生成文件期间工具栏下方会显示进度。
播放或拖动时间轴，观察光谱逐步演化到最终设计。步进曲线让你一眼看出每一层如何移动光谱，这对于发现贡献很小（因而难以监控）或使光谱剧烈摆动的层很有用。.res 文件是交付给沉积控制器的成果：它们描述了每一层结束时的目标光谱，以便监控器将实时测量值与预期值进行比较。实时光谱使用设计的标称材料且不含噪声；要获得贴近实际的制备预测，请改用宽带或单色监控仿真器。
- H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., §2.6.4（非相干基底）。