蒙特卡洛
蒙特卡洛（Monte-Carlo）回答一个实际问题：如果你的镀膜机以现实的随机误差沉积每一层，光谱会偏移多少，结果又有多大概率仍通过你的规格（Specification）？你设定每层厚度与折射率误差的大小与形状，选择运行的试验次数，工具就会为每次试验构建一个全新、随机扰动的版本。它对每次试验评估 T、R 或 A，在全部试验上保持运行均值与标准差，并跟踪实际出现的极值。如果你的设计带有规格，每次试验都会重新对照它检查，从而得到良率（yield）数值。
分析针对在设计编辑器中设置的面模式（前、后或整体）运行，并显示为窗口上的徽标。
T / R / A：要研究的光谱特性。
λ 范围 / 步长：波长网格，单位为纳米。
AOI / pol：入射角与偏振（s、p 或平均）。
一次试验的抽样来源位于图表下方的**误差（Errors）**条中，旁边是抽样所用的试验次数。
试验次数（N trials）：要模拟的随机扰动设计数量。更多试验给出更平滑的走廊与更稳定的良率估计；走廊噪声大致按 1/√N 缩小。默认 200。
分布（Distribution）：每层误差的抽样方式。这控制随机抽样的形状，而非其大小：
- 高斯（Gaussian）：你输入的值是一个标准差 σ。约 68% 的层落在 ±σ 内，其余超出；尾部无界，因此 σ 不是硬性最大值。
- 均匀（Uniform）：你输入的值是一个硬性 ± 边界 B。误差在 [−B, +B] 上均匀分布，因此没有误差超过 B，实际 RMS 为 B/√3 ≈ 0.58·B。
- 截断（Truncated）：高斯钟形被裁剪，使任何误差都不超过输入的边界 B（取为 3σ）。实际 RMS 约为 B/3。
选择均匀或截断时，误差字段会从 σ 重新标记为 ±，并自动开启最小/最大包络，因为这些分布具有真正值得查看的硬性边界。
σ 绝对 / σ 相对（nm / %）：每层的厚度误差。绝对部分是一个固定的纳米量；相对部分随每层自身厚度缩放。二者相加。
σ Re(n) / σ Im(n)：每层在折射率实部（n）与消光（k）上的误差。
按材料误差（Per-material errors）：为每种材料抽取一个共享误差，而非为每一层抽取独立误差，建模的是材料化学漂移而非监控散布。
保持光学厚度（Keep optical thickness）：将厚度误差与折射率误差关联，使 n·d 保持恒定。仅当设置了折射率误差时才有意义；若仅有厚度误差，它会抵消扰动。
k σ 走廊（k σ corridor）：阴影带的宽度，以标准差计。这仅用于显示：改变 k 会立即重绘该带而无需重跑试验，且从不影响良率。
最小/最大包络（min/max envelope）：叠加所有试验中出现的极端光谱。对于均匀与截断分布，这是真正的硬性边界；对于高斯分布则无固定上限，并随试验增加 widening。
图表单位为百分比。实线为理论（未扰动）光谱，虚线为所有试验的均值，阴影带为均值 ± k·σ。带宽意味着设计对制造误差敏感；带窄意味着它稳健。注意，在光谱弯曲处，均值可能略微偏离理论曲线（例如增透最小值的反射率均值向上漂移）。这是真实的物理现象，而非噪声。
如果设计带有规格，结果条显示良率（yield）（通过全部要求的试验比例）以及任何失败要求的红色标记，并附其失败率。打开**查看试验…（View trials…）**可深入查看：统计选项卡按失败率排列最差要求与最差层（那些在失败试验中厚度偏差大于通过试验的层，或当无失败时偏差最大的层）。试验选项卡列出每次试验的通过/失败标记，并显示所施加的精确每层 Δd、Δn 与 Δk。**将厚度载入设计（Load thicknesses into design）**将所选试验的扰动厚度复制到活动设计，以便直接检查；该更改可撤销。
一个快速健全性检查：将所有误差设为零，每次试验都会坍缩到理论曲线上，走廊宽度为零。
- H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., §13.7。