系统偏差
系统偏差（Systematic Deviations）回答“假设”问题，其中每层以相同方式同时漂移：如果所有层都厚了 2%、如果镀膜机每层都长了 +5 nm，或如果某材料折射率偏移了 Δn = +0.05？与蒙特卡洛不同，这里的误差是相关的：一个刻意偏移应用于整个设计，而非每层独立的随机抽取。你的设计从不被修改；偏差应用于工作副本，结果叠加在未扰动光谱之上。
分析针对在设计编辑器中设置的面模式运行，并显示为窗口上的徽标。
每层的厚度变为 d′ = max(0, d · scale + offset)。scale 是乘性的（全局 scale × 每材料 scale），offset 是加性的（全局 offset + 每材料 offset）。offset 可以四种单位输入，在设计参考波长 λ₀ 处转换为每层的物理纳米：
- nm：物理纳米，直接使用。
- OT：光学厚度，单位为 nm；除以 n(λ₀)。
- QW：λ₀ 处的四分之一波。
- FW：λ₀ 处的全波。
单一 / 扫描（Single / Sweep）：两种工作模式（如下所述）。
λ 范围 / 步长：波长网格，单位为纳米。
AOI / pol：入射角与偏振（s、p 或平均）。
T+R+A / T / R / A：要绘制哪些通道。
基线（baseline）：在未扰动光谱之后叠加扰动光谱。
图表下方的条保存偏差本身，并跟随模式。
在**单一（Single）**模式下，你构建一个固定偏差并将其叠加在基线上：
d × scale：厚度乘数。
d + offset：平坦厚度偏移，旁边带 nm / OT / QW / FW 单位选择器。
Δn / Δk：实部与虚部折射率的加性偏移（k 保持 ≥ 0）。
这些作为应用于整个堆栈的**全局（Global）偏差出现一次，并作为每材料（Per-material）**下的每材料偏差再次出现。每材料值与全局值组合（Δn 与 Δk 加性，scale 乘性），因此你可以说“全部 +2%，但 TiO₂ 也超了 +3 nm”。每个每材料行列出该材料出现的每个位置，包括入射与出射介质；在多个角色中的材料显示一次并包含所有（例如 Air (incident, exit)），编辑它在该材料各处生效。
重置偏差（Reset deviations）：将每个控件恢复为其无操作值。
在**扫描（Sweep）**模式下，你在一个范围内变化一个参数并映射结果：
扫描参数（Sweep parameter）：上述全局或每材料控件中的任意一个。
从 / 到 / 步数（from / to / steps）：范围与分辨率。范围在你切换参数种类时重新设定为合理默认值，并保持完全可编辑。偏移参数带有自己的 nm / OT / QW / FW 单位选择器。
**运行扫描（Run sweep）**计算映射。扫描是自包含的：它仅从未扰动设计开始变化所选参数，因此全局与每材料字段在此模式下不显示。要将固定偏差与扫描组合，先在单一模式下设置固定部分。
在单一模式下，图表为百分比，基线绘制为虚线，扰动光谱为上方实线。二者之间的间隙是偏差的代价。如果设计带有规格，实时判定会告诉你扰动设计是否仍通过。
在扫描模式下，结果是参数值（垂直）相对波长（水平）的热图，通道值作为颜色（也为百分比）；选择 T+R+A 会堆叠三张图。垂直轴标有扫描参数及其单位。宽而缓慢变化的带意味着设计很好地容忍该误差；窄而快速变化的带意味着它处于刀刃上。
- H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., §13.7。