椭偏仪评估

椭偏仪（Ellipsometry）窗口计算当前活动设计的椭偏角 Ψ 与 Δ，即椭偏仪报告的振幅比与相移量。用它来预测仪器对给定镀膜应看到的结果，从而可将模拟曲线与实测曲线比较，或规划一次测量。

这两个角度来自 p 偏振与 s 偏振光之间的复反射比：

ρ = r_p / r_s = tan(Ψ) · exp(i Δ)

这是反射的那一对量，也是唯一被建模的一对：透射方式工作的仪器测得的是另一个量，本窗口不计算它。样品按各向同性处理，因此广义椭偏与 Mueller 矩阵椭偏同样不在范围之内。

你可以扫描固定角度下的波长，或固定波长下的入射角。

若要把真实仪器测得的 Ψ 与 Δ 引入设计并与之对比，请使用实测椭偏。

设置

模式（Mode）：在波长上扫描（光谱式）或在入射角上扫描（角度式）。

面（Side）：评估前镀膜或后镀膜。椭偏仪建模的是单次相干反射，来自一个面，因此每一侧独立处理。

波长范围与步长（光谱模式）：扫描的跨度与采样间隔，单位为 nm。

AOI（光谱模式）：固定的入射角，单位为度。默认 65° 是典型基底布儒斯特（Brewster）区域附近常见的椭偏仪角度。

波长（角度模式）：角度扫描所用的固定波长。

AOI 范围与步长（角度模式）：角度扫描的跨度与采样间隔，单位为度。

Ψ 绘制在左轴（0–90°），Δ 绘制在右轴（0–360°）。Ψ 编码 p 与 s 反射振幅之比，Δ 编码二者相位差。在角度扫描中，基底的布儒斯特角表现为 Δ 中的急剧阶跃，这可作为有用的校准检查。

数据表列出 Ψ 与 Δ 相对扫描变量的数值，便于导出。本窗口是正向计算：要从实测的 Ψ 与 Δ 反推层厚度，请使用精炼（Refinement），并将目标设在这些量上。

H. G. Tompkins & E. A. Irene, Handbook of Ellipsometry (William Andrew, 2005).
H. A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, 5th ed., p. 553（式 16.2）。